지식경제부공고 제2009 – 369호 |
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2009년도 나노반도체장비 원천기술상용화사업 신규지원 대상과제 공고 |
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반도체장비산업의 발전과 기술력 향상을 위하여 2009년도 신규지원 대상과제를 다음과 같이 공고하오니 해당 기술개발과제를 수행하고자 하는 자는 관련규정에 따라 신청하여 주시기 바랍니다. |
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2009년 9월 28일 지식경제부장관 |
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□ 사업목적 |
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○ |
국가 성장전략에 기반한 반도체장비분야의 핵심 · 원천기술 개발지원을 통해 차세대 반도체 산업의 경쟁력을 제고하고 미래 국가경쟁력 확보 |
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□ 지원대상 분야 |
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○ |
상용화 개발 과제
– |
공동구매연계형 과제 : 수요기업이 제시하는 장비의 사양을 복수의 수요기업과 공동으로 개발하여 장비의 복수기업 공급을 촉진하는 과제 |
– |
시장개척형 과제 : 수요기업이 구매확약하는 장비를 수요기업과 공동으로 개발하고 기술개발결과물의 상용화 및 해외시장 개척을 지원하는 과제 |
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○ |
원천기술 개발 과제
– |
기업의 애로기술 및 국산 원천기술을 대상으로 3년 내에 제품개발에 기여할 수 있도록 핵심기술을 개발하는 과제 |
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Ⅰ. 지원내용 |
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□ |
지원규모 : 총 정부출연금 359.5억원 (‘09년 119.5억원, ’10년 120억원, ‘11년 120억원) |
□ |
사업기간 : 2009. 11. 1 ~ 2012. 10. 31(3년) |
□ |
지원분야별 정부출연금 비율 및 지원예산 |
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지원분야 |
정부출연금 지원비율 |
과제별 당해 정부출연금 |
공동구매 연계형 |
2/3 이내 |
25억원 내외 |
시장개척형 |
1/2 이내 |
10억원 내외 |
원천기술개발 |
2/3 이내 |
3억원 내외 |
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□ |
참여기업수에 따른 정부출연금 및 민간현금부담 비율 |
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참여기업수 |
참여기업 유형 및 구성 |
정부출연금 지원비율 |
민간부담금 현금비율 |
1개 |
중소기업1) |
3/4 이내 |
민간부담금(현금+현물)의 10% 이상 |
대기업 |
1/2 이내 |
민간부담금(현금+현물)의 20% 이상 |
2개 이상 |
중소기업 2/3 이상 |
3/4 이내 |
민간부담금(현금+현물)의 10% 이상 |
중소기업 2/3 미만 |
1/2 이내 |
민간부담금(현금+현물)의 20% 이상2) |
1) |
중소기업은 『중소기업기본법 시행령』 제3조(중소기업 범위)에서 정한 기업 |
2) |
단, 중소기업이 주관기관인 경우는 민간부담 현금비율이 민간부담금 총액의 10% 이상임 |
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□ |
민간부담금 |
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○ |
정부 이외의 자는 기술개발사업비 중 정부출연금 이외의 비용을 부담해야 하며, 민간부담금 중 현금부담비율은 상기 정부출연금 및 민간현금 부담비율에 따름 |
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□ |
고용창출을 위해 중소기업 신규채용인력 인건비 현금지원 |
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○ |
중소기업이 신청과제 수행을 위해 학사학위 소지자 이상의 연구원을 공고일 이후 신규로 채용하는 경우는 신규채용인력의 참여율에 따른 인건비를 현금으로 지원(단, 해당 인건비(현금+현물) 총액의 50%이내에 한함) |
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□ |
기술료 징수 |
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○ |
상용화기술개발 과제유형의 경우, 기술개발 결과에 대한 최종평가 결과가 “성공”으로 평가된 기술료 징수대상 과제에 대해서는 기술개발종료 시점에서 아래의 정액기술료를 5년 이내 균등 분할하여 전담기관(한국산업기술평가관리원)에 납부하여야 함 |
주관기관 유형 |
정액기술료 |
대기업 |
정부출연금의 40% |
중견기업 |
정부출연금의 30% |
중소기업 |
정부출연금의 20% |
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○ |
원천기술개발 과제유형의 경우, 주관기관이 비영리기관인 경우는 사업수행결과를 활용하여 발생한 실시기업 매출액 중 일부를 아래와 같이 주관기관에서 경상기술료를 징수 |
실시기업 유형 |
경상기술료 |
대기업 |
매출액의 5% 이내 |
중견기업 |
매출액의 3.75% 이내 |
중소기업 |
매출액의 2.5% 이내 |
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○ |
지원분야별 기술료 징수 – 상용화개발 과제 : 정액기술료 – 원천기술개발 과제 : 경상기술료 |
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Ⅱ.지원분야 |
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□ |
지원대상 과제 |
구분 |
지원대상 과제명 |
상용화 과제 (공동구매 연계형 과제 또는 시장개척형 과제)
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30nm급 Gap Fill 용 Flowable Oxide 증착장비 개발 300mm급 플라즈마 도핑장비 개발 Low Pressure RTO 장비 개발 Boron doped Si 용 LPCVD 증착장비 개발 Cu Barrier/Seed 용 ALD 증착장비 개발 25nm급 oxide Trench etcher 개발 30nm급 High Throughput Cu CMP 장비 개발 25nm급 Poly etcher 개발 200MHz 급 CIS 웨이퍼 테스터 개발 1.8nm 고 분해능을 갖는 반도체 In-line CD-SEM 개발 |
원천 기술 과제
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저손상 나노소자공정을 위한 450mm 장비 플라즈마 원천기술 개발 450mm 장비 플라즈마 공정 해석용 고신뢰성 시뮬레이터 개발 450mm 장비용 정전척 제작을 위한 요소 기술 개발 20 nm급 Cu 배선 장비를 위한 공정 및 소재 개발 PRAM 및 ReRAM 장비용 Precursor 및 ALD 공정 개발 차세대 초고속 테스터를 위한 ASIC Chip 개발 30nm급 플라즈모닉 광 리소그래피 장비 원천기술 개발 |
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Ⅲ. 신청 자격 |
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□ |
기업, 대학, 연구기관, 연구조합, 사업자단체 및 기타 산업기술혁신촉진법에 의한 산업기술개발사업의 실시기관 등 |
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○ |
단, 원천기술 과제는 대학, 연구기관, 연구조합 등 비영리기관에 한정함 |
○ |
주관기관이 기업인 경우는 접수마감일 현재 창업 1년 이상 경과하고(사업자등록증 기준), 기업부설연구소를 보유하고 있는 법인사업자이어야 함 |
○ |
신청서 접수일 현재 사업자등록증이 발급된 기관에 한하며, 개인자격으로는 신청 불가 |
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Ⅳ. 신청요령 |
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□ |
신청방법 |
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○ |
산업기술지원 홈페이지(www.itech.go.kr)에 인터넷 전산등록하여 접수번호를 부여받은 후 신청서(사업계획서 및 첨부서류)를 우편 또는 인편으로 제출(10월 16일(금) 18시까지 도착분에 한함) |
○ |
사업계획서의 사업비 계상은 「지식경제 기술혁신사업 사업비의 산정, 관리 및 사용, 정산에 관한 요령」를 참조하여 작성 |
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□ |
사업계획서 및 관련양식 교부 |
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○ |
양식 교부 : 2009. 9. 28(월) ∼ 2009. 10. 16(금) – 사업계획서 등 신청서 양식 |
○ |
양식 교부 및 접수안내 : 산업기술지원 홈페이지(www.itech.go.kr) |
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□ |
인터넷 전산등록 |
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○ |
전산 등록처 : 산업기술지원 홈페이지(www.itech.go.kr) – 온라인 과제접수는 『온라인 과제접수 매뉴얼』참조 |
○ |
전산 등록기간 : 2009. 9. 28(월) ∼ 2009. 10. 15(목) |
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□ |
신청서 제출 |
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○ |
제출기간 : 2009. 9. 28(월) ∼ 2009. 10. 16(금) 18:00까지 ※ 전산 등록기간에 미등록된 과제의 경우는 신청서 접수가 불가함 |
○ |
제출처 : (우305-348) 대전시 유성구 화암동 58-4번지 한국산업기술평가관리원 1층 안내데스크 (042-715-2114) |
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※ 우편물 표지에 과제번호, 공고번호, 신청 과제명을 기재 요망 |
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Ⅴ. 관련 법령 및 규정 |
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□ |
「지식경제 기술혁신사업 공통 운영요령」, 「기술료 징수 및 사용·관리에 관한 통합요령」, 「지식경제 기술혁신사업 사업비의 산정, 관리 및 사용, 정산에 관한 요령」, 「지식경제 기술혁신사업 보안관리요령」, 「지식경제 기술혁신사업 연구·윤리 진실성 확보 등에 관한 요령」 및 「지식경제 기술혁신사업 평가관리지침(기술개발사업)」 |
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Ⅵ. 평가절차 및 유의사항 |
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□ |
평가절차 및 평가지표 |
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○ |
사업계획서 접수(’09.10)→ 사전검토(’09.10) → 평가위원회 평가(’09.10) → 평가결과 통보 및 이의신청(’09.10)→ 신규사업자 확정(’09.11) → 협약체결(’09.11) |
○ |
평가위원회 평가지표 – 상용화개발 과제유형 : 사업성(60), 기술성(40) – 원천기술개발 과제유형 : 사업성(40), 기술성(60) – 기술개발계획 : 개발목표의 구체성과 명확성, 정량적 평가항목의 적절성, 개발계획의 독창성과 적정성, 추진체계의 적절성과 타당성, 기존 특허의 분석현황 등 |
○ |
평가결과에 대한 이의가 있을 경우 평가결과 통보일로부터 7일이내에 가능함 |
※ |
접수 마감후 지원경쟁률이 높은 경우에는 서면평가를 통과한 업체에 한하여 평가위원회(발표평가)를 실시할 예정이며, 서면평가에서 탈락한 과제는 관련규정에 따라 이의신청이 불가함 |
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□ |
아래의 경우 평가 시 우대함 |
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○ |
세계일류상품 관련기술을 일류상품 생산업체가 주관기관으로 신청한 경우(3점) |
○ |
최근 3년 이내 지식경제부 소관 기술개발사업으로 수행한 결과 “우수”과제로 판정받은 총괄책임자가 신청과제의 총괄책임자인 경우(2점) |
○ |
주관기관의 참여연구원 중 여성참여연구원이 10% 이상인 경우(2점) |
○ |
신기술(NET), 신제품(NEP), 신뢰성(R)인증을 보유한 기업이 당해 기술과 관련하여 주관기관으로 신청한 경우(2점) |
○ |
최근 3년간 정부로부터 상생협력우수기업으로 선정된 기업(임직원이 선정된 경우, 그가 소속된 기업, 또는 성과공유제 참여기업이 주관기관으로 신청한 경우(3점) |
○ |
성과활용평가를 통해 “우수”등급으로 선정된 기업이 주관기관으로 신청한 경우(2점) |
○ |
대기업과 중소기업의 공동기술개발 과제인 경우(2점) |
○ |
2개이상의 수요기업이 구매확약한 과제의 경우(10점) |
※ |
평가위원회 평가시 상기 가점기준에 따라 가점을 합산하되, 총 5점을 초과할 수 없음(공동구매연계형 과제는 총15점까지 가능) |
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□ 다음의 경우는 지원대상에서 제외될 수 있음 |
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○ |
신청과제가 공고된 과제제안요구서(RFP)의 목표 및 내용에 부합하지 않는 경우 |
○ |
신청된 세부 기술개발 목표 및 내용이 기지원, 기개발된 과제와 동일한 경우 |
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※ |
한국산업기술평가관리원 홈페이지(www.keit.re.kr)의 “자료마당→지원과제검색→키워드검색” 및 타기관 공개자료(www.ntis.go.kr)의 “국가R&D종합서비스→사업관리→사업/과제검색→연구과제” 등을 활용하여 중복성 검토 후 접수하시기 바람 |
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○ |
산업기술개발사업에 참여중인 자가 접수마감일 현재 동 사업 의무사항(보고서제출, 기술료 납부 등)을 불이행하고 있는 경우 |
○ |
주관기관, 참여기관, 주관기관의 장, 참여기관의 장, 총괄책임자 등이 접수마감일 현재 국가연구개발사업에서 참여제한을 받고 있는 경우 |
○ |
접수마감일 현재 주관기관, 주관기관의 장, 총괄책임자, 참여기관, 참여기관대표자가 부도 및 금융기관 등의 채무불이행자이거나, 법정관리, 화의기업, 최근 2년연속 결산 재무재표상의 부채비율이 500% 이상, 유동비율 50%이하, 완전자본잠식, 최근년도 감사의견이 “의견거절”, 또는 “부적정”, 개인회생·파산·면책권자인 경우 |
○ |
신청과제의 총괄책임자가 협약 월을 기준으로 정부출연연구과제 및 기관 고유 사업에 참여하는 비율을 포함하여 총 과제 수행 참여율이 100%를 초과한 경우(총괄책임자는 신청과제에 참여율을 30%이상 계상함을 원칙으로하며, 잔여연구기간이 3개월 미만인 과제는 총 수행과제 수에 포함하지 않음) |
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□ 다음의 경우는 신청서를 반려할 수 있음 |
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○ 접수마감 종료시간까지 전산접수(인터넷 전산등록)가 완료되지 않은 과제 ○ 전산접수를 완료한 후 접수마감 종료시간까지 신청서가 제출처에 접수되지 않은 과제 ○ 동일한 주관기관, 총괄책임자가 동일 RFP에 중복 신청한 과제 ○ 상용화개발분야로 신청한 과제가 수요기업 구매확약서를 미제출한 경우 |
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□ 지적재산권 및 발생품의 귀속 |
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○ |
사업의 수행결과로 발생된 유형적·무형적 결과물은 세부주관기관이 소유하나, 협약이 정하는 바에 따라 참여기관이 소유가능함 |
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□ 제출된 서류는 일체 반환하지 않음 |
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Ⅷ. 문의처 |
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상세 내용 및 관련양식은 한국산업기술평가관리원 홈페이지(www.keit.re.kr) 또는 산업기술지원 홈페이지(www.itech.go.kr) 참조 |
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상세한 내용은 아래 전화번호로 문의 ○ 한국산업기술평가관리원 전기전자평가팀 : 042-715-2232,2236~37,2242~43 |
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